5nm光刻机的原理 |
更新时间: 2024-03-29 12:34:11 |
1、光刻机可以分为用于生产芯片、用于封装和用于LED制造。按照光源和发展前后,依次可分为紫外光源(UV)、深紫外光源(DUV)、极紫外光源(EUV),光源的波长影光刻机的工艺。光刻机可分为接触式光刻、直写式光刻、投影式光刻。 2、原理:接近或接触式光刻通过无限靠近,复制掩模板上的图案;直写式光刻是将光束聚焦为一点,通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工。投影式光刻光刻因其高效率、无损伤的优点,是集成电路主流光刻技术。 关键词: 5nm 原理 |
5nm光刻机的原理相关资讯
相关推荐
- 金融科技专业学什么 有哪些课程
- 微信拍一拍功能在哪里设置呢 微信拍一拍有趣后缀文字
- iphone14pro烧屏怎么办 iphone14pro烧屏怎么解决
- 华为p40pro怎么更改返回键 华为p40pro怎么设置返回键
- ipad2022的wlan版和5G版有什么不一样的 ipad数据连接版本区别介绍
- 微信小程序怎么清理 微信小程序删除方法介绍
- 手机百度通过语音唤醒的步骤 手机百度设置语音唤醒在哪里
- 必剪关闭短信通知的步骤 必剪关闭短信通知最新教学
- 华为怎么关闭智慧搜索 怎么关闭下拉搜索
- 电子烟的积炭问题
- 生僻字歌词
- 录入生僻字是什么意思
- 怎么在qq上给附近的人打招呼
- 半导体芯片是什么
- 科学计算器使用方法
- 能上热门的句子
- 高德地图导航被什么公司收购
- DNA可以被什么染料染色
- 如何快速浏览网站
- 苹果手机已购项目怎么删除
最热天气预报
更多>