光刻机有几个国家能生产

光刻机有几个国家能生产

目前能制造高端光刻机的好像只有中国，荷兰（镜头来自德国）和日本。光刻机又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机，堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

光刻机为什么那么难制造

1、首先，光刻机的透镜，光源技术难度大，研发要求历史和时间比较长。其实光刻机的发展历史非常悠久，从90年代开始，发达国家就已经开始研究光刻机的相关技术。其中美国著名厂商asml负责研发，在硬件方面他们采用德国蔡司的透镜。并且其他的相关硬件都来自于其他高科技国家。所以说光刻机技术不仅仅是一个国家就能够研发出来的，它还需要全球不同的国家为其提供生产力和科技的支持。举一个简单的例子说明，美国生产的7纳米芯片，是利用光刻技术将数据集成到芯片上。并且在制作过程当中要非常严格地掌控光的大小。这远比制作一个普通的相机要难，因为相机只需要控制光圈，而光刻机不仅仅是要控制光的大小，还要能够利用光。

2、其次，光刻机的研发需要大量的资金支持，很多企业难以承担高昂的研发费用。美国等发达国家研究光刻机，几乎每年都有超过90个亿的资金作为研发费用。到目前为止这些掌握光刻机技术的国家大约都花费了约4000亿元。并且目前光刻机市场的老大asml几乎可以说是整个光刻机技术的垄断者。他们每年投入的研发费用，几乎是某些世界500强企业的三个季度的收入。

3、最后，我国的光刻机技术刚起步，仍然面临着许多难题需要攻克。从目前我国在相关行业发展历史分析，只有上海微电子装备和合肥芯硕半导体有限公司在研究光刻机方面取得了一定的进步。

光刻机原理

1、光刻机制作芯片的过程，基本和“冲印照片”一样。假设拍的是风景，胶片上会有曝光痕迹，先要在暗室里显影，让风景在胶片上显示出来。然后在红光下通过放大机，把胶片上的风景投射到相纸上，让相纸曝光。再通过相纸的显影、定影、烘干得到最终的照片。除了风景之外，“照片冲印”需要有胶片，有光源、放大机、相纸。

2、对光刻机来说，所谓“风景”就是设计好的集成电路图（IC），“胶片”就是一块石英板（光罩），用来记录集成电路图，“相纸”就是硅晶圆，“放大机”就相当于光刻机。

3、所不同的是，洗照片是放大，把小胶片放大到相纸上，光刻机是缩小，把电路图缩小到晶圆上。

4、在光刻机领域，有三家国际大牌：荷兰ASML（艾斯摩尔），日本Nikon（尼康），日本Canon（佳能）。但高端光刻机市场，荷兰ASML是无可争议的世界霸主，把第二名都甩得很远，因为技术难度太高、需要的投资太大，尼康、佳能已经放弃EUV光刻机的研发。

关键词： 光刻 国家 生产